초고진공(UHV) 환경은 입자 가속기, 반도체 제조 및 최첨단 과학 연구에 필수적이며, 1 x 10¯6 torr 이하의 압력을 처리할 수 있는 고도로 전문화된 부품이 필요합니다. 이러한 극한 조건은 재료 방출, 윤활 제한 및 뛰어난 열 안정성과 재료 호환성의 필요성과 같은 고유한 도전을 제시합니다. 이러한 설정에서 사용되는 베어링은 진공 환경을 오염시키지 않고 신뢰할 수 있는 성능을 보장하기 위해 엄격한 표준을 충족해야 합니다. UHV 베어링의 주요 과제 재료 방출: 재료에서 갇힌 가스를 방출하는 방출은 원치 않는 입자를 도입하여 UHV 환경을 손상시킬 수 있습니다. UHV 시스템에서 사용되는 베어링은 방출을 최소화해야 하므로 재료 선택이 중요합니다.열 안정성 및 호환성: 오염 물질을 제거하기 위해 종종..

IonQ에서는 상업적 양자 이점을 제공할 수 있을 만큼 강력한 시스템을 위해 계산 에너지 비용을 줄일 수 있는 새로운 진공 솔루션을 적극적으로 개발하고 있습니다. 이 블로그에서는 진공 연구에서 지금까지의 진행 상황, 앞으로의 경로, 그리고 에너지 수요 해결이 양자 산업에 왜 그렇게 중요한지에 대해 논의할 것입니다. 컴퓨팅 에너지 위기 생성형 인공지능의 출현은 세계에 전례 없는 컴퓨터 생성 경험을 가져왔고, 컴퓨터가 할 수 있는 일에 대한 많은 사람들의 이해를 변화시켰습니다. 이러한 경험 뒤에는 불행한 진실이 있습니다: 고전적인 기술은 점점 더 많은 에너지를 필요로 합니다. 이 혁명을 이끄는 대형 언어 모델을 연마하고 개선하는 데 점점 더 많은 에너지를 필요로 하는 더 크고 더 큰 모델의 확산이 있습니다...

서론 반도체 산업은 마이크로칩, 집적 회로, 트랜지스터 및 기타 전자 부품과 같은 전자 장치 제조에 중요한 역할을 합니다. 반도체 장비는 이 산업 내 연구, 개발 및 생산 공정에 필수적입니다. 반도체 제조 도구에 사용되는 전기 기계 장치는 반도체 제조 공정의 특정 요구 사항으로 인해 종종 진공 호환이 필요합니다. 진공 환경을 유지하는 것은 오염 제어, 공정 제어 향상 및 반도체 장치의 품질 향상을 포함하여 여러 가지 이유로 필수적입니다. 이 기사에서는 반도체 장비 제조의 주요 측면과 이러한 전기 기계 장치가 진공 호환이 필요한 이유를 살펴보겠습니다.1.1 클린룸 환경 및 진공 요구 사항반도체 장비를 제조하려면 미세한 입자라도 반도체 생산에 악영향을 미칠 수 있으므로 클린룸 환경이 필요합니다. 클린룸 시설..

서론 반도체 산업은 다양한 공정과 응용을 위해 진공 기술에 크게 의존합니다. 이 문맥에서 진공은 매우 낮은 압력과 거의 없는 가스 분자가 있는 환경을 의미합니다. 진공 기술이 반도체 산업에서 사용되는 주요 방법은 다음과 같습니다: 증착 공정 진공은 화학 기상 증착(CVD) 및 물리 기상 증착(PVD)과 같은 반도체 제조에 사용되는 다양한 증착 공정에 필수적입니다. 이러한 공정은 실리콘 웨이퍼에 얇은 층의 재료를 증착하여 집적 회로 및 기타 반도체 부품을 만듭니다. 진공 환경은 재료 증착을 정확하게 제어하고 공기 분자로 인한 오염을 줄입니다. 식각 진공은 반도체 웨이퍼에서 특정 영역의 재료를 제거하는 식각 공정에서도 사용됩니다. 플라즈마 식각과 같은 건식 식각 방법은 종종 낮은 압력 환경을 사용하여 매우 ..

가상 누출은 표면이나 재료의 덩어리에서 흡착되거나 포함된 가스가 천천히 방출되면서 발생하는 실재하지 않는 누출입니다. 가상 누출의 핵심 요소는 가스의 느린 방출입니다. 이는 가상 누출이 펌핑 과정을 지연시키거나 원하는 기본 압력에 도달하는 시간을 크게 연장시키는 가스 소스임을 명확히 나타냅니다. 가상 누출에서 가스 흐름 속도는 갇힌 가스 저장소와 진공 챔버의 자유 부피 사이의 누출 채널의 크기에 따라 결정됩니다. 채널이 매우 작으면 높은 흐름 저항으로 인해 갇힌 가스가 매우 천천히 방출됩니다. 이로 인해 챔버의 펌프 다운 시간이 크게 연장될 수 있습니다. 진공 시스템이 반복적으로 환기되면 가스 저장소는 계속해서 다시 채워질 수 있습니다. 이 효과는 펌핑이 발생할 때마다 반복됩니다. 펌프 자체는 탈기 속도..

스크류 펌프는 건식 압축 가스 전달 펌프 계열에 속합니다. 이들은 두 개의 나사 모양의 맞물린 회전자를 사용하여 가스를 나사의 축을 따라 이동시키는 용적형 펌프입니다. 주로 산업용 진공 응용 분야에서 사용되며, 종종 루츠 블로워와 결합하여 고진공 및 초고진공 시스템에서 무오일 러핑 펌프로 사용됩니다.스크류 펌프는 어떻게 작동하나요?스크류 펌프는 서로 "맞물려 회전하는" 두 개의 반대 방향으로 회전하는 스크류 로터를 사용합니다. 이는 로터의 나사 사이 공간에 가스를 가두게 됩니다. 스크류가 회전하면서 이 가둬진 부피가 줄어들어 가스를 압축하면서 동시에 배출구로 이동시킵니다. SCREWLINE (건식 스크류 펌프)로터: 로터는 고압 쪽에서 캔틸레버 디자인 솔루션으로 지지되며, 내부에서 냉각될 수 있습니다.모..

멤브레인 펌프는 다양한 산업에서 필수적인 도구로 자리잡았습니다. 그러나 그 작동 원리는 무엇일까요? 고성능 멤브레인 펌프는 유연한 다이어프램을 사용하여 액체나 기체를 이동시킵니다. 이러한 펌프는 부식성 및 민감한 유체를 안전하게 처리할 수 있어 다양한 응용 분야에 적합합니다. 멤브레인 펌프의 내부 작동 원리와 그 기능적 원리, 유지보수 요구 사항 및 주요 특성을 살펴보며 현대 산업의 다양한 요구를 충족시키는 방법을 알아보겠습니다.멤브레인 펌프란 무엇인가요?멤브레인 펌프(다이어프램 펌프라고도 불림)는 컴팩트하고 내구성이 뛰어나며 유지보수가 적은 용적형 펌프로, 유연한 멤브레인이나 다이어프램의 왕복 운동을 이용하여 액체와 기체를 이동시키거나 진공이나 압력을 생성합니다. 다른 유형의 펌프와 달리 멤브레인 펌프..

P.A.Redhead캐나다 오타와, ON KIA 0R6, 국가 연구 위원회 초록. 수소는 초고진공(UHV) 및 극초고진공(XHV) 범위와 같은 매우 낮은 압력에서 금속 진공 시스템에서 지배적인 잔여 가스입니다. 수소 탈가스율을 감소시키는 것은 XHV를 달성하는 데 가장 큰 도전 과제입니다. 최근 몇 년 동안 금속에서의 수소 탈가스와 관련된 확산 및 흡착/탈착 과정에 대한 이해가 크게 향상되어 스테인리스강 및 알루미늄 합금과 같은 금속에서의 수소 탈가스율을 줄이는 더 나은 방법을 개발할 수 있었습니다. 이 개요에서는 진공 시스템에서 수소의 영향을 이해하는 데 있어서 최근의 발전을 검토합니다. 여기에는 a) 진공-금속 인터페이스에서의 흡착/탈착/확산 평형, b) 벌크 금속에서 H 원자의 여러 에너지 상태의 ..

애질런트(Agilent)는 예프센(Jepsen), 헬머(Helmer) 및 홀(Hall)이 Varian Associates에서 이온 펌프를 발명한 지 60주년을 기념합니다. 이 발명은 초고진공(UHV)을 가능하게 한 중요한 이정표였습니다. 애질런트 테크놀로지스(Agilent Technologies)는 2010년 Varian, Inc.를 인수하면서 고진공 및 초고진공 기술 분야에서 타의 추종을 불허하는 풍부한 경험을 물려받았습니다. 이 중요한 기반 기술의 발전은 입자 가속기 및 분석 장비에서 반도체 및 코팅에 이르는 많은 과학 및 기술 응용 분야에 깨끗한 고진공 및 초고진공을 제공했습니다.  초기 역사 Varian의 초기 활동은 1948년에 Klystron의 발명가인 Russell Varian과 그의 형제 ..

거의 모든 대기압 작동을 위해 설계된 오일 밀봉 진공 펌프는 가스 밸러스트 장치가 장착되어 있습니다. 그런데 가스 밸러스트의 목적은 무엇일까요? 그것이 최종 압력에 도달하는 데 영향을 미치지 않나요? 또한 진공 펌프의 배기 시간이 더 길어지지 않나요? 이 짧은 기사에서는 가스 밸러스트의 다양한 응용 분야에 대해 설명하겠습니다. 가스 밸러스트오일 밀봉 진공 펌프의 가스 밸러스트는 1935년 Wolfgang Gaede 교수의 발명품 (저압을 생성하기 위해 증기 및 가스/증기 혼합물을 전달하는 단일 또는 다단계 진공 펌프)에 그 기원을 두고 있습니다. 원래의 목적은 진공 펌프의 압축 단계에서 펌핑된 가스 증기의 응축을 방지하는 것이었습니다. 그러나 가스 밸러스트는 그 이상의 역할을 할 수 있습니다! 구조 및 ..